A tecnologia de deposição física de vapor (PVD) refere-se ao uso de métodos físicos sob condições de vácuo para vaporizar a superfície de uma fonte de material (sólida ou líquida) em átomos ou moléculas gasosas, ou ionizá-la parcialmente em íons, e passá-la por gás de baixa pressão (ou plasma). O processo, uma tecnologia para depositar uma película fina com uma função especial na superfície de um substrato, é uma das principais tecnologias de tratamento de superfície. A tecnologia de revestimento PVD (deposição física de vapor) é dividida principalmente em três categorias: revestimento por evaporação a vácuo, revestimento por pulverização catódica a vácuo e revestimento iônico a vácuo.
Nossos produtos são utilizados principalmente em revestimentos por evaporação térmica e pulverização catódica. Os produtos utilizados na deposição de vapor incluem fios de tungstênio, barcos de tungstênio, barcos de molibdênio e barcos de tântalo. Os produtos utilizados no revestimento por feixe de elétrons são fios de tungstênio catódicos, cadinho de cobre, cadinho de tungstênio e peças de processamento de molibdênio. Os produtos utilizados no revestimento por pulverização catódica incluem alvos de titânio, alvos de cromo e alvos de titânio-alumínio.
