A tecnologia de deposição física de vapor (Deposição Física de Vapor, PVD) refere-se ao uso de métodos físicos sob condições de vácuo para vaporizar a superfície de uma fonte de material (sólido ou líquido) em átomos ou moléculas gasosas, ou ionizar parcialmente em íons e passar através de baixo -gás de pressão (ou plasma). Processo, tecnologia de deposição de um filme fino com função especial na superfície de um substrato, e a deposição física de vapor é uma das principais tecnologias de tratamento de superfície. A tecnologia de revestimento PVD (deposição física de vapor) é dividida principalmente em três categorias: revestimento por evaporação a vácuo, revestimento por pulverização catódica a vácuo e revestimento iônico a vácuo.
Nossos produtos são usados principalmente em evaporação térmica e revestimento por pulverização catódica. Os produtos usados na deposição de vapor incluem fio de tungstênio, barcos de tungstênio, barcos de molibdênio e barcos de tântalo os produtos usados no revestimento por feixe de elétrons são fio de tungstênio catódico, cadinho de cobre, cadinho de tungstênio e peças de processamento de molibdênio Os produtos usados no revestimento por pulverização catódica incluem titânio alvos, alvos de cromo e alvos de titânio-alumínio.
