O método de evaporação por feixe de elétrons é um tipo de revestimento de evaporação a vácuo, que usa feixes de elétrons para aquecer diretamente o material de evaporação sob condições de vácuo, vaporizar o material de evaporação e transportá-lo para o substrato, e condensar no substrato para formar uma película fina.No dispositivo de aquecimento por feixe de elétrons, a substância aquecida é colocada em um cadinho resfriado a água, o que pode evitar a reação entre o material de evaporação e a parede do cadinho e afetar a qualidade do filme.Vários cadinhos podem ser colocados no dispositivo para obter evaporação e deposição simultânea ou separada de várias substâncias.Com a evaporação por feixe de elétrons, qualquer material pode ser evaporado.
A evaporação por feixe de elétrons pode evaporar materiais com alto ponto de fusão.Comparado com a evaporação por aquecimento por resistência geral, possui maior eficiência térmica, maior densidade de corrente do feixe e velocidade de evaporação mais rápida.Filme e filme de vários materiais ópticos, como vidro condutor.
A característica da evaporação do feixe de elétrons é que ela raramente cobre os dois lados da estrutura tridimensional alvo e geralmente apenas se deposita na superfície alvo.Esta é a diferença entre a evaporação do feixe de elétrons e a pulverização catódica.
A evaporação por feixe de elétrons é comumente usada no campo da pesquisa e indústria de semicondutores.A energia acelerada do elétron é usada para atingir o alvo material, fazendo com que o alvo material evapore e suba.Eventualmente depositado no alvo.
Horário da postagem: 02 de dezembro de 2022